技術(shù)資源

160kV高壓電源的絕緣防護(hù)技術(shù)研究與應(yīng)用

一、高電壓絕緣防護(hù)的技術(shù)挑戰(zhàn)160kV高壓電源在電力傳輸、工業(yè)設(shè)備及醫(yī)療儀器等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,但其絕緣系統(tǒng)面臨多重挑戰(zhàn):1 電場分布不均

E-Chuck高壓電源的晶圓吸附力技術(shù)研究與應(yīng)用

一、靜電吸附原理與技術(shù)需求在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓加工精度的核心挑戰(zhàn)之一在于如何實(shí)現(xiàn)晶圓的穩(wěn)定固定與無損轉(zhuǎn)移。傳統(tǒng)機(jī)械夾持方式易造成

高壓電源在電子倍增器倍增效果中的關(guān)鍵技術(shù)研究

一、電子倍增機(jī)理與高壓電場耦合關(guān)系電子倍增器的核心性能依賴于高壓電源對(duì)二次電子發(fā)射過程的精準(zhǔn)控制。當(dāng)倍增器通道加載800-1200V電壓時(shí)

高壓電源在微通道板探測器增益控制中的關(guān)鍵技術(shù)研究

一、增益生成機(jī)理與高壓電場耦合關(guān)系微通道板(MCP)的增益特性直接取決于高壓電源對(duì)二次電子發(fā)射過程的精確調(diào)控。當(dāng)通道內(nèi)壁加載800-1200V

高壓電源在離子束系統(tǒng)中離子能量控制的關(guān)鍵技術(shù)研究

一、離子能量生成機(jī)理與高壓電場耦合關(guān)系離子束系統(tǒng)的核心效能取決于高壓電源對(duì)離子能量的精確控制。當(dāng)加速電壓達(dá)到50-300kV時(shí),電場強(qiáng)度與

高壓電源在電子束系統(tǒng)中電子發(fā)射的關(guān)鍵技術(shù)研究

一、電子發(fā)射的物理機(jī)制與高壓電場作用電子束系統(tǒng)的核心在于通過高壓電場實(shí)現(xiàn)可控電子發(fā)射,其物理過程涉及熱發(fā)射與場致發(fā)射的復(fù)合機(jī)制。當(dāng)

高壓電源在靜電噴涂工藝中對(duì)涂層均勻性的關(guān)鍵技術(shù)解析

靜電噴涂技術(shù)作為現(xiàn)代工業(yè)表面處理的重要工藝,其涂層均勻性直接關(guān)系到產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)成本。作為核心動(dòng)力源的高壓電源,其電氣參數(shù)與調(diào)控能

毛細(xì)管電泳高壓電源的電場分布優(yōu)化與調(diào)控技術(shù)

一、電場分布的理論模型與關(guān)鍵參數(shù)毛細(xì)管電泳(CE)高壓電源的電場均勻性直接影響分離效率與分辨率,其數(shù)學(xué)模型可表示為: [ E(x) = fr

高壓電源離子化效率的質(zhì)譜分析及優(yōu)化路徑

一、離子化效率的核心影響因子高壓電源的離子化效率(η)定義為有效離子動(dòng)能與輸入電能之比,其理論模型可表示為: [ η = frac